菲希爾CMS2 STEP電位差庫(kù)侖儀的詳細(xì)資料：

菲希爾CMS2 STEP電位差庫(kù)侖儀

特性:
    吸引人的設(shè)計(jì)，大的液晶顯示器和清晰安排的鍵盤。
    操作簡(jiǎn)單，菜單指引的操作提示。
    電解區(qū)域直徑從0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。
    大約100個(gè)預(yù)先定義好的應(yīng)用程式適用于大多數(shù)的金屬鍍層，包括測(cè)量線材。

 
  測(cè)量印刷線路板上剩余純錫的厚度 
下面的公式適用于通過庫(kù)侖法電解腐蝕確定鍍層厚度：  
 
測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測(cè)量 面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對(duì)不同的金屬 采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。 電解過程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制， 用一 個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電 解液*利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。 

 
菲希爾CMS2 STEP電位差庫(kù)侖儀

校準(zhǔn) 校準(zhǔn)時(shí)會(huì)產(chǎn)生一個(gè)修正系數(shù) 。這是由于測(cè)量槽密封墊子的制造公差、鍍層密度的變化、合金成分的變化，需要該修正系數(shù)。
 
 作為測(cè)量鍍層厚度zui簡(jiǎn)單的方法之一，庫(kù)侖法可以用于各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當(dāng)允許破壞性測(cè)量時(shí)，它提供了一個(gè)比X射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 應(yīng)用 強(qiáng)大并且用戶友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗(yàn)。
 
 很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用CMS2簡(jiǎn)單快速地測(cè)量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層提供了的測(cè)量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm內(nèi)， 很多材料不需要預(yù)設(shè)定；基材組成和幾何形狀對(duì)于測(cè)量都是無(wú)關(guān)緊要的。
 
 zui常見的應(yīng)用之一就是測(cè)量線路板上剩余的純錫，以確保可焊性。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu在鐵或者塑料（ABS）基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè)方法進(jìn)行測(cè)量。
 
 測(cè)量原理 這個(gè)系列儀器根據(jù)DIN EN ISO 2177標(biāo)準(zhǔn)的庫(kù)侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過在控制電流條件下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過程。所載入的電流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。
 
 測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測(cè)量面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對(duì)不同的金屬采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。 電解過程由COULSCOPE儀器的電子部分控制， 用一個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電解液*利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。
 
 STEP Test是在允許腐蝕的情況下用來(lái)同時(shí)測(cè)量電位差和多層鎳的鍍層厚度，該方法是這個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)。 應(yīng)用
 多層鎳鍍層的品質(zhì)控制需要能在電鍍完成后立刻檢查厚度和電位差的儀器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是為這個(gè)目的而設(shè)計(jì)的，它操作簡(jiǎn)單，參比電極使用起來(lái)也不復(fù)雜，非常適合電鍍工廠苛刻環(huán)境下的這種應(yīng)用
 
 電鍍鎳層用作電解保護(hù)和提高機(jī)器表面屬性，如硬度等。 特別是汽車工業(yè)中，電鍍鎳部件在防腐蝕方面要滿足很高的要求。單一鎳層無(wú)法滿足該要求。因此，目前正在開發(fā)非常復(fù)雜的鍍層系統(tǒng)，其中包含兩層、三層甚至四層鍍鎳層，還有鉻或銅鍍層。
 
 測(cè)量原理 STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemi- cal Potential determination)（同時(shí)測(cè)量鍍層厚度和化學(xué)電位差）的簡(jiǎn)寫，是已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化很久的測(cè)量方法。它可以同時(shí)測(cè)量各鍍層厚度和多層鎳系統(tǒng)中兩層之間的電化學(xué)電位差。 厚度測(cè)量時(shí)用庫(kù)侖法來(lái)測(cè)量，電位差通過外面鍍一層AgCl的銀參比電極來(lái)測(cè)量。電壓曲線可以顯示在屏幕上，鍍層厚度和電位差可以在圖上讀出。 為了獲得可以比較的穩(wěn)定電位差測(cè)量結(jié)果，參比電極到工件的距離必須始終保持不變。這個(gè)問題通過特殊的測(cè)量槽得到解決。
 
 銀參比電極被設(shè)計(jì)成一個(gè)圓錐形的環(huán)狀電極，并作為測(cè)量槽底部的外殼與測(cè)量槽蓋連接。測(cè)量槽的設(shè)計(jì)保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。

COULOSCOPE CMS STEP 雙層鎳鍍層測(cè)量版本
Couloscope CMS2 STEP 電解測(cè)厚儀
4種不同類型的測(cè)量臺(tái)適合于測(cè)量各種種類的被測(cè)物體。

Couloscope CMS2 STEP 庫(kù)侖測(cè)電位差測(cè)厚儀

測(cè)量原理 

這個(gè)系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)的庫(kù)侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過在控制電流條件 下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過程。所載入的電 流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面 積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。 

作為測(cè)量鍍層厚度zui簡(jiǎn)單的方法之一，庫(kù)侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當(dāng)允許破壞性測(cè) 量時(shí)，它提供了一個(gè)比 X 射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 

很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡(jiǎn)單快速地測(cè)量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層 提供了的測(cè)量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內(nèi)， 很多 材料不需要預(yù)設(shè)定；基材組成和幾何形狀對(duì)于測(cè)量都 是無(wú)關(guān)緊要的。 
 
zui常見的應(yīng)用之一就是測(cè)量線路板上剩余的純錫，以確 保可焊性。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料（ABS） 基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè) 方法進(jìn)行測(cè)量

COULOSCOPE CMS基本配置：

儀器：            Couloscope CMS
測(cè)量臺(tái)：          V24、V26、V18 等
電解液：          F1 ～ F22

COULOSCOPE CMS特征：
標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177 ； ASTM B504

模擬輸出： 0 ～ -18V
輸入阻抗： ＞ 2 KΩ
工作溫度： 10 ℃ ～ 40 ℃
儀器重量： 6 kg 
電源： AC 220 V ，50-60 Hz；zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸： 350W * 140H * 200D  mm